Specialgrafit adskiller sig fra almindelige grafitmaterialer. Det har typisk højere renhed, en mere ensartet mikrostruktur og mere stabil høj-temperaturydelse, hvilket gør den primært brugt i fotovoltaiske enkelt-krystalovne, halvlederudstyr, høj-temperaturindustrier og atomenergi.
Specialgrafit nyder en stabil efterspørgsel på tværs af flere produktionssektorer. Solcelleindustrien er et af de hurtigst-voksende anvendelsesområder i de seneste år. Grafitvarmere, digelstøttestrukturer og isoleringsmaterialer bruges i vid udstrækning i enkelt-krystal siliciumkrystaltrækudstyr; disse komponenter kræver typisk grafit med høj-renhed. Efterhånden som størrelsen af fotovoltaiske siliciumwafers øges, og krystaltrækudstyret opgraderes, stiger størrelsen og de tekniske krav til relaterede grafitkomponenter også.
Halvlederfremstillingsudstyr er et andet vigtigt anvendelsesområde for specialgrafit. I udstyr til kemisk dampaflejring, ætsning og waferbehandling er grafitmaterialer i vid udstrækning brugt i lastbærende strukturer eller varmekomponenter. Disse applikationer kræver typisk materialer med høj renhed og lavt indhold af urenheder, hvilket stiller højere krav til fremstillingsprocesser.
Ydermere har sektoren for atomenergiudstyr også en efterspørgsel efter specialgrafit. Høj-temperaturgas-afkølede reaktorer og andre reaktorstrukturer kræver brug af store mængder grafit som kernestrukturmaterialer, og deres stabilitets- og sikkerhedskrav er høje. Selvom omfanget af relaterede applikationer er relativt begrænset, er den tekniske tærskel høj, så det er altid blevet betragtet som en high-produktretning inden for specialgrafit.
